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施設名	R社様　電子デバイス製造排水処理施設
処理方式	メッキ排水処理+スクラバー排水処理+凝集沈殿処理
処理能力	日平均汚水量 120m3／日

凝集沈殿槽+廃ガススクラバー

内部　反応槽

薬品貯槽

反応槽、薬品貯槽はすべて当社 飯田工場のFRP製品 です